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    1. 设备名称
      磁控溅射镀膜系统
    1. 制造厂商
      1. 规格型号
        品牌型号:金盛微纳JS4S-75G
      1. 所属单位
        中国科学院深圳先进技术研究院
      1. 收费标准
        1. 性能参数

           

           
          【性能参数】
          • 极限真空:≤6.7×10-5Pa
          • 抽速:连续抽气30分钟,真空度≤5×10-3Pa
          • 溅射靶规格:3寸
          • 溅射靶数量:四靶倾斜上置
          • 溅射不均匀性:≤±5%
          • 样片台可旋转,转速可调
          • 加热温度:≤800℃,可自动控温、测温
          • 溅射形式:多靶系列可实现单一靶溅射、复合靶材溅射、两种材料交替溅射
        1. 主要功能与用途

           

          【功能用途】
          本设备可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、右英、III-V族化合物及金属等材料表面镀制AI , Au 、Cr、Ti 、Ni 、Cu , W、SiO2、各种金属、非金属,单层、多层膜;主要用于微电子、光电子、通讯、微机械等领域的器件研发和制造。